연구과제
RESEARCH PROJECT

Leading New Materials


그린리소스는 정부 연구개발 과제를 통해
미래 첨단소재 산업의 새로운 기준을 만들어가고 있습니다.

과제명 수행년도
고부가가치 고순도 희토류(란타늄) 메탈 제조의 국산화 2013.08.01 ~ 2014.07.31
1M 이상급 대면적 고융점 합금(Mo-Ta) 타겟 제조기술 개발 2013.12.01 ~ 2014.11.30
반도체공정 중 가스 배출에 의한 안전문제 대응을 위한 폐가스 내 과불화 화합물(PFC)처리용 고내구성 연소분해모듈 개발 2014.09.01 ~ 2015.08.31
플라즈마 내식성 고밀도 후막을 제조할 수 있는 에어로졸 데포지션용 미세 산화이트륨소재 제조기술개발 2014.11.25 ~ 2015.11.25
고성능 영구자석용 고순도 Nd금속 환원 및 정련 기술 2016.09.01 ~ 2019.08.31
제조원가 절감을 위한 희소금속 생산용 친환경 고체 산화물 멤브레인(SOM) 제련기술개발 2016.07.01 ~ 2020.12.31
고출력 F, Cl계 플라즈마 공정 대응 대형부품용 내플라즈마 세라믹 코팅 신소재 및 코팅공정기술 2020.04.01 ~ 2024.12.31
300mm 대면적 반도체 장비 정상식각 구현을 위한 기공율 1%이하, 경도 500Hv 이상 불화물계 내플라즈마 하이브리드 신코팅공법 기술개발 2020.07.01 ~ 2021.12.31
초소형 반도체 건식식각장비 부품 적용 내플라즈마성 물리적기상증착 초고밀도 YAG 코팅기술 개발 2020.11.20 ~ 2021.11.19
서스펜션 플라즈마 용사용 산화이트륨 및 코팅기술개발 2021.04.01 ~ 2023.12.31
최대 용착률 공정파라미터 적정화를 위한 신경망이 탑재된 진공 서스펜션 플라즈마 용사 시스템 개발 및 일본산 세라믹시트 정전척 대체 유전층 제조공정개발 2019.11.25 ~ 2021.11.24
100미크론 이상 두께를 갖는 99%이상의 초고밀도 세라믹 코팅층을 형성시킬 수 있는 서스펜션 플라즈마 용사기술의 국산화 2022.04.01 ~ 2024.08.31
8.X세대 디스플레이용 250℃ 가열 가능한 고온 식각용 하부척 기술 개발 2024.07.01 ~ 2028.12.31
수소 라디칼을 포함하는 반도체 어닐링 공정 장비용 석영유리의 2배 이상 장수명화를 위한 표면개질 및 재활용 재생복원 기술 개발 2024.10.01 ~ 2027.12.31

자체개발 과제 수행
반도체 제조용 코팅막 및
그 제조 방법
대면적 OLED 패널 제조용
챔버의 코팅제
금속염 화합물의 전구체 용액을 이용한 구형 세라믹 분말 제조 방법 및 구형 금속염 분말의 제조 장치
디스플레이(OLED) 식각 장비용 정전척 제작 및 수리
TOP

개인정보처리방침

(주)그린리소스(이하 “회사”라 함)는 개인정보 보호법 등 관련 법령을 준수하며, 고객 및 홈페이지 이용자(이하 “정보주체”)의 개인정보를 보호하기 위하여 개인정보처리방침을 수립·공개하고 있습니다.

회사는 개인정보처리방침을 통하여 정보주체가 제공하는 개인정보가 어떠한 목적과 방식으로 처리되고 있는지 알려드리며, 개인정보 보호를 위하여 필요한 조치를 지속적으로 이행하고 있습니다.

회사는 개인정보처리방침을 개정하는 경우 홈페이지 공지사항 또는 개별 공지를 통해 안내할 것입니다.

본 개인정보처리방침은 회사가 운영하는 홈페이지를 통해 수집·처리되는 개인정보에 적용되며, 해당 홈페이지 이외의 사이트에는 별도의 개인정보처리방침이 적용될 수 있습니다.