Target

Metal 구형 금속 분말 및 합금 분말을 사용하여 금속 타겟 제조 연구

Ceramic 구형 세라믹 분말을 사용하여 세라믹 타겟 제조 연구, 초전도 타겟 제조 연구

Glass Hot Press를 이용하여 글라스 타겟 제조 연구

Rotary 원통형 타겟 및 캐소드 연구 개발

Coating

APS 반도체 및 세라믹 정전척 절연층 및 유전층 코팅 연구 개발

SPS 반도체 챔버, 라이너 내플라즈마 코팅 연구

AD 반도체 챔버, 리드 내플라즈마 코팅 연구

Special Coating

PVD E-Beam Evaporation 진공도, 가스분압, 온도, 소스 등 물리기상증착 조건-품질 연구
DC Magnetron Sputtering 자장 균일도, 온도, 타겟 등 물리기상증착 조건-품질 연구
RF Sputtering 자장 균일도, 온도, 타겟 등 물리기상증착 조건-품질 연구

CVD 구성요소 및 파라미터 최적화 하여 화학기상증착 조건-품질 연구

ALD 구성요소 및 파라미터 최적화, 플라즈마 등 원자층증착 조건-품질 연구

E-Gun

E-Gun 400 킬로와트급 고출력 피어싱 전자빔 장치 및 제어 시스템 개발

RF Ion-Beam

RF Ion-Beam 대면적 고균일도 이온빔 장치 및 제어 시스템 개발

Cleaning

레이저 고출력 레이저를 이용한 건식 표면 오염 제거 기술 개발

CO2 저온-고압의 이산화탄소를 이용하여 표면 오염 제거 기술 개발

LN2 극저온의 액화 질소를 이용하여 표면 오염 제거 기술 개발