Advanced Materials
Enhancing Performance at the Core
소재부품
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세라믹 파우더 및 세라믹, 금속, 초전도 타겟 등의 다양한 소재부품을 생산하고있습니다.
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APS Powder
2013년에 국내 최초로 반도체용 APS 코팅 소재를 국산화에 성공하였고, 이후 Y₂O₃, YAG 등 다양한 코팅용 파우더를 생산하고있습니다. 이로 인해서 국내 시장에 코팅 소재 공급이 보다 원활하게 되었습니다.
Enhanced APS
고온 플라즈마 환경에서도 안정적인 분사 특성을 가지며, 치밀하고 균일한 코팅층 형성이 가능합니다. 내마모성, 내열성, 내식성이 요구되는 부품 코팅에 적합하며, 다양한 산업용 응용에 활용됩니다. Yttria고순도 세라믹 소재로, 우수한 내플라즈마성과 화학적 안정성을 지녀 반도체 공정 부품의 부식 방지에 활용됩니다. 높은 융점과 절연 특성으로 고온·고전압 환경에서도 안정적인 성능을 유지합니다. Yttrium Aluminum GarnetY₂O₃와 Al₂O₃의 복합 세라믹 소재로, 우수한 내플라즈마성과 열적 안정성을 동시에 갖춘 고성능 코팅재입니다. 높은 경도와 절연성을 지녀 반도체 공정 부품의 마모 및 부식 방지에 효과적이며, 고온 환경에서도 화학적 조성 변화가 거의 없어 장시간 안정적인 보호층을 제공합니다. Yttrium OxyFluoride우수한 내플라즈마성과 화학적 안정성을 동시에 갖춘 차세대 세라믹 소재입니다. 플루오르계 플라즈마 환경에서도 부식이 거의 발생하지 않아 반도체 에칭 공정용 부품 보호 코팅에 적합하며, Y₂O₃보다 입자 탈리 및 파티클 발생이 적은 것이 특징입니다.
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SPS Slurry / AD
10um 이하 크기의 입자를 사용하는 SPS 공정과 AD 공정용 코팅 소재를 제조하는 분쇄 기술 보유하고 있으며, 분쇄 후 슬러리 상태로 제조하기 위한 분산 기술 보유하였습니다.
국책과제 수행을 통하여, 분쇄 및 합성법으로 0.1um ~ 10um 입자크기로 용도에 맞게 입자 크기 제어가 가능한 기술을 개발 하였습니다.
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반도체 향 타겟
OTS 타겟은 비휘발성 PCM 메모리의 셀렉터 소자(Ovonic Threshold Switch) 박막을 형성하는 칼코제나이드(Chalcogenide)계 스퍼터링 타겟으로, 대면적에 균일한 Glass phase를 구현하는 최첨단 기술이 집약된 제품입니다.
GST target(Germanium-Antimony-Telluride) 짧은 전기 펄스를 가해 온도를 조절함으로써 상변화를 유도할 수 있어 PCM 소자 제조에 사용됩니다.
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초전도 향 타겟
YBa₂Cu₃O₇₋ₓ (Yttrium-Barium-Copper Oxide) YBCO(Yttrium-Barium-Copper Oxide) 타겟을 활용해 초전도 특성을 갖는 고품질 박막을 형성합니다. 균일한 조성과 치밀한 막질을 구현하여 핵융합, 초전도 선재 등 첨단 산업 부품의 성능을 높입니다.
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Target Manufacturing
금속용 가스 아토마이징(Gas Atomization)과 세라믹용 스프레이 드라이(Spray Dry) 공정을 활용해 원료 분말의 다성분계 조성을 정밀하게 제어합니다.
이를 기반으로 핫 프레스(Hot Press) 및 스프레이 코팅(Spray Coating) 기술을 적용하여 고품질 금속·세라믹 소재의 스퍼터용 타겟을 제작하는 독보적인 기술력을 보유하고 있습니다.