Precision Coating
Innovating Surface Tech
코팅장비
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APS, SPS System
APS 장비
다중 전극 플라즈마 건으로 펄스 DC 환경의 분말 미용융 문제를 해결한 APS 장비입니다. 주요 공정 변수를 정밀 제어하여 코팅 두께, 밀도, 표면 거칠기 및 접착력을 최적화합니다.SPS 장비
다중 전극 플라즈마 건을 탑재해 액상 원료의 완전 용융을 구현하는 SPS 장비입니다. 정밀한 공정 제어로 미세 입자 기반의 고밀도 피막 형성과 뛰어난 접착력을 제공합니다.
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AD System
AD 장비에서는 코팅 재료의 공급 속도, 기판 이동 속도와 거리, 노즐 위치 등을 조절하여 코팅 두께, 밀도, 표면 거칠기 등을 최적화할 수 있습니다.
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PVD System
당사의 PVD 장비는 챔버 압력, 공정 가스, 기판 온도, 증착 시간 등 핵심 변수의 미세 제어를 통해 박막의 두께, 균일성, 결정성을 극대화합니다.
전·자기장 해석(Ansys) 및 마그넷 자체 제작 역량과 다채로운 R&D 설비를 집약하여 차별화된 고품질 박막 개발 솔루션을 제공합니다.
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ALD System
ALD 장비에서는 전구체 종류와 주입 시간, 챔버 온도, 반응 및 퍼지 시간, 반복 사이클 수 등을 조절하여 박막의 두께, 균일성, 조성, 결정성을 정밀하게 제어할 수 있습니다. 나노 단위 두께 조절이 가능합니다.