Green Resource

APS, SPS system

단일 전극 구조의 플라즈마 코팅건에서의 펄스DC 전압에서의 미용융 발생 단점을 극복한 다중 전극 플라즈마 건 개발

APS 장비에서는 플라즈마 전류, 전압, 가스 종류와 유량, 분말 공급 속도, 기판 이동 속도와 거리, 노즐 위치 등을 조절하여 코팅 두께, 밀도, 표면 거칠기, 접착력을 최적화할 수 있습니다.

AD 장비에서는 코팅 재료의 공급 속도, 기판 이동 속도와 거리, 노즐 위치 등을 조절하여 코팅 두께, 밀도, 표면 거칠기 등을 최적화할 수 있습니다.

PVD 장비에서는 챔버 압력과 공정 가스, 기판 온도, 타겟-기판 거리, 증착 시간 등을 조절하여 박막의 두께, 균일성, 결정성 등을 최적화할 수 있습니다.

Benefits of Greenresource

전기장, 자기장 해석 (Ansys)
Magnet 자체 제작
다양한 R&D 설비로 박막 품질 개발 가능

ALD 장비에서는 전구체 종류와 주입 시간, 챔버 온도, 반응 및 퍼지 시간, 반복 사이클 수 등을 조절하여 박막의 두께, 균일성, 조성, 결정성을 정밀하게 제어할 수 있습니다. 나노 단위 두께 조절이 가능합니다.